|
|
Transportní vlastnosti jednotlivých grafenových zrn
Vysocký, Filip ; Kormoš, Lukáš (oponent) ; Procházka, Pavel (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce je zaměřena na výrobu jednotlivých grafenových zrn metodou chemické depozice z plynné fáze, jejich přenos na nevodivý substrát a následnou výrobu grafenových polem řízených tranzistorů. Teoretická část práce pojednává převážně o různých způsobech výroby grafenu. V praktické části práce je popsána výroba grafenových polem řízených tranzistorů elektronovou litografií a měření jejich transportní vlastností.
|
|
|
Transportní vlastnosti grafenových vrstev během jejich přenosu
Gryga, Michal ; Lišková, Zuzana (oponent) ; Procházka, Pavel (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce je zaměřena na studium transportních vlastností grafenu, který byl vyroben metodou chemické depozice z plynné fáze (Chemical Vapor Deposition, CVD) na měděné fólii a následně přenesen na křemíkový substrát s 280 nm oxidu křemičitého. V práci byl zkoumán vliv různých rozpouštědel mědi a vliv plazmatického čištění křemíkových substrátů před nanesením grafenu na jeho výslednou kvalitu.
|
|
|
Transportní vlastnosti jednotlivých grafenových zrn
Vysocký, Filip ; Kormoš, Lukáš (oponent) ; Procházka, Pavel (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce je zaměřena na výrobu jednotlivých grafenových zrn metodou chemické depozice z plynné fáze, jejich přenos na nevodivý substrát a následnou výrobu grafenových polem řízených tranzistorů. Teoretická část práce pojednává převážně o různých způsobech výroby grafenu. V praktické části práce je popsána výroba grafenových polem řízených tranzistorů elektronovou litografií a měření jejich transportní vlastností.
|
|
|
Transportní vlastnosti grafenových vrstev během jejich přenosu
Gryga, Michal ; Lišková, Zuzana (oponent) ; Procházka, Pavel (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce je zaměřena na studium transportních vlastností grafenu, který byl vyroben metodou chemické depozice z plynné fáze (Chemical Vapor Deposition, CVD) na měděné fólii a následně přenesen na křemíkový substrát s 280 nm oxidu křemičitého. V práci byl zkoumán vliv různých rozpouštědel mědi a vliv plazmatického čištění křemíkových substrátů před nanesením grafenu na jeho výslednou kvalitu.
|
host ::
RSS.